Артикул: 516-953
Модель: ЕХН-77(9Н)
Секция: Дополнительная
Трёхголовочная установка магнетронного распыления с системой очистки газа
В единый блок управления встроены три источника питания для распыления: источник постоянного тока мощностью 500 Вт и радиочастотный источник мощностью 300 Вт с частотой 13,56 МГц. Входное питание однофазное, 220 В переменного тока с допуском ±10 %, частота 50/60 Гц, общая мощность составляет 2000 Вт с учётом вакуумного насоса и охладителя воды. Распылительные головки диаметром 25,4 мм оснащены водяными рубашками охлаждения, устанавливаются через быстрозажимные соединения и имеют ручную заслонку на фланце. Циркуляционный охладитель воды обеспечивает расход 16 л/мин. Максимальные размеры мишени составляют 25,4 мм в диаметре и 3,175 мм по толщине. Расстояние распыления регулируется в пределах 50–80 мм, угол распыления — 0–25°. В комплект входят медная мишень, мишень из оксида алюминия и медные опорные пластины толщиной 1 и 2 мм. Вакуумная камера из высокочистого кварца имеет наружный диаметр 256 мм, внутренний диаметр 238 мм и высоту 276 мм. Уплотнительный фланец из алюминия диаметром 274 мм оснащён высокотемпературным силиконовым уплотнительным кольцом. Максимальный вакуум составляет 1,0 × 10⁻⁵ Торр при использовании турбонасоса и прогреве камеры. Защитный экран из нержавеющей стали обеспечивает радиочастотное экранирование. Вибрационный держатель образца оснащён двигателем с регулируемой скоростью 400–2000 об/мин. Резервуар для порошка чашечной формы имеет размер 50,8 мм; порошок подпрыгивает и самостоятельно вращается. Количество порошка составляет 5–20 мл, размер частиц — 1–1000 мкм, при этом порошок должен быть высушен в вакууме. Система очистки газа предназначена для замены турбонасоса при нанесении покрытий на аккумуляторные элементы. Две молекулярно-ситовые колонны удаляют кислород и влагу; предусмотрены встроенные контроллеры температуры регенерации, автоматическая продувка и автоматическое регулирование давления. Система оснащена сенсорной панелью ПЛК размером 152,4 мм. После очистки давление в камере можно установить в диапазоне 50–100 мТорр. Опционально доступен кварцевый монитор толщины плёнки с точностью 0,010 нм; установку можно размещать в стандартном перчаточном боксе для материалов, чувствительных к воздуху. Масса установки без упаковки составляет 70 кг.
Задать вопрос Искать на Baidu
Какую задачу решает установка магнетронного распыления
Установка магнетронного распыления предназначена для нанесения покрытий на металлические и изоляционные материалы, включая порошковые образцы, в вакуумной камере.
Характеристики ЕХН-77(9Н)
Модель (по базе 91Т)ЕХН-77(9Н)
Материалустановка для магнетронного распыления
Размер540 мм (Д) × 540 мм (Ш) × 1000 мм (В)
Установка магнетронного распыления - гибкость поставки.
Мы осознаём, что у каждого проекта свои особенности. В связи с этим мы можем обсудить изменение технических характеристик, типоразмеров и комплектации ЕХН-77(9Н) под условия эксплуатации (на мощностях оригинального производителя или нашего завода в России).
Мы осознаём, что у каждого проекта свои особенности. В связи с этим мы можем обсудить изменение технических характеристик, типоразмеров и комплектации ЕХН-77(9Н) под условия эксплуатации (на мощностях оригинального производителя или нашего завода в России).
Дата последней сверки данных: 26.09.26
Производитель и характеристики проверены.
Люди, которые искали Установка магнетронного распыления, также смотрели:
+3 фотоРучной аппарат для лазерной очистки с волоконным лазером
Модель: ШБЮ-41(1Д)
Скорость очистки аппарата превышает 30 м²/ч. Предусмотрены диапазоны ширины очистки 100–200 мм и 200–500 мм. Аппарат подходит для обработки нержавеющей и углеродистой стали, алюминия, древесины, камня, латуни, меди, металлических форм, промышленного оборудования, титана, стекла и бумаги, а также рез
+3 фотоНастольная установка для высокомощного магнетронного распыления постоянного тока
Модель: УРВ-19(5Б)
Установка оснащена кварцевой вакуумной камерой в виде стеклянной трубки с наружным диаметром 165 мм, внутренним диаметром 150 мм и высотой 250 мм. Гибкая распылительная головка имеет водяное охлаждение; допустимая толщина мишени составляет до 6,35 мм для немагнитных и до 1,5875 мм для магнитных мате
+2 фотоПортативная установка для лазерной очистки
Модель: ЖБУ-24(7Н)
Портативная установка для лазерной очистки предназначена для удаления ржавчины, покрытий и загрязнений с различных материалов. Лазер с высокой плотностью мощности обеспечивает высокоточную очистку без повреждения основы. Система воздушного охлаждения обеспечивает оптимальную работу и длительную эксп
+4 фотоПромышленная аккумуляторная электрическая подметальная машина с местом оператора
Модель: НГУ-97(4Э)
Ездовая конструкция подметальной машины облегчает управление, обеспечивает гибкое руление и стабильную скорость движения. Вместительный мусоросборник рассчитан на большое количество отходов и позволяет реже выполнять выгрузку. Основная щётка в сочетании с двумя боковыми щётками формирует широкую зон



