Компактный вакуумный плазменный очиститель

В качестве очищающей среды используется газ, что позволяет избежать вторичного загрязнения, связанного с жидкими очистителями. В конструкции предусмотрены компьютерное управление и программирование. Радиочастотный источник питания имеет выходную мощность 100 Вт и частоту 13,56 МГц, а потребляемая мощность установки вместе с вакуумным насосом составляет менее 500 Вт. Органические загрязнения удаляются за короткое время, при этом степень очистки может достигать молекулярного уровня. При определённых условиях обработки свойства поверхностей некоторых материалов можно изменять. Плазменный разряд повышает адгезию, совместимость и смачиваемость специальных материалов, а также используется для дезинфекции и стерилизации. Рабочая камера имеет размер Ø190 × 98 мм, кварцевая трубка — Ø180 × 55 мм при толщине стенки 7 мм, внутренняя камера — Ø165 × 55 мм. Диаметр очищающего электрода составляет 120 мм, диаметр столика для образца — 150 мм, эффективный размер столика — 140 мм; расстояние между столиком и электродом регулируется в диапазоне 15–50 мм. Столик может оснащаться нагревом до температуры образца 200–500 °C, а также отрицательным смещением для плазменного травления. Предельная степень вакуума составляет 0,1 Па, рабочий диапазон — 60–500 Па. Опционально доступны два воздушных канала, один или два регулятора расхода и двухканальный индикатор расхода; диаметр пневматического интерфейса составляет 6 мм. Давление охлаждающей воды должно находиться в пределах 0,2–0,4 кПа. В качестве дополнительной принадлежности предусмотрен нагреваемый столик диаметром 100 мм и регулятор расхода с диапазонами 10, 50 и 100; количество каналов можно увеличить не более чем до двух. Габариты установки без вакуумного насоса составляют 245 × 235 × 460 мм, масса без насоса — 20 кг. Рабочая температура окружающей среды составляет 5–35 °C, относительная влажность — менее 80 % без конденсации, высота эксплуатации — 0–2000 м.

Наименование производителя

High-Power Vacuum Plasma Cleaner With Advanced RF Power Supply for Enhanced Plasma Cleaning Performance