Лабораторный вакуумный очиститель плазмы, вместимость 2 л, частота 40 кГц, мощность 300 Вт

Лабораторный вакуумный очиститель плазмы работает с воздухом, кислородом, азотом и аргоном. Группа электродов подключена к радиочастотному источнику питания; между электродами формируется высокочастотное переменное электрическое поле, которое возбуждает газ и образует плазму. Активная плазма воздействует на поверхность физическим бомбардированием и химической реакцией. Материал поверхностного слоя переходит в частицы и газообразные вещества, удаляемые вакуумированием. Такая обработка может активировать поверхность, повышать адгезию и увеличивать прочность сварного соединения. Остатки фоторезиста, смол, растворов и другие органические загрязнения удаляются за короткое время воздействия. Рабочее давление составляет 10–30 Па, расход газа регулируется в диапазоне 10–160 мл/мин. Характеристическое сопротивление равно 50 Ом, согласование выполняется автоматически, а частотное отклонение не превышает 0,2 кГц. Управление осуществляется микроконтроллером в автоматическом или ручном режиме. Время процесса регулируется от 1 до 100 минут, диапазон регулировки мощности составляет 10–100%. Рабочий ток всей установки без вакуумных насосов не превышает 1,2 А. Камера изготовлена из нержавеющей стали, ее диаметр составляет 100 мм, длина — 270 мм. Температура камеры ниже 65 °C, охлаждение принудительное воздушное. Габариты установки составляют 400×450×250 мм, масса — 36,5 кг.

Наименование производителя

Laboratory 2L 40KHz 300W Plasma Cleaner for Plasma Cleaning, Etching, Surface Treatment with air , O2, N2, Ar