Система 3D-магнетронного распыления

Система 3D-магнетронного распыления предназначена для равномерного нанесения тонких пленок на образцы различной геометрии. Ток распыления регулируется и программируется в диапазоне 5–30 мА; управление выполняется микропроцессором. Дополнительная поворотно-наклонная платформа обеспечивает непрерывно регулируемое вращение со скоростью 0–60 об/мин и наклон от −90° до +90°. Стандартная вращающаяся платформа диаметром 40 мм рассчитана на четыре держателя образцов. Двойной механизм фиксации предотвращает смещение образца во время работы. Стандартная золотая мишень имеет диаметр 57 мм и толщину 0,1 мм, платиновая мишень доступна дополнительно; обе предназначены для нанесения проводящих покрытий высокой чистоты. Стандартный держатель вмещает 12 столиков для образцов, а диапазон регулировки высоты составляет 60 мм. Рабочая камера из нержавеющей стали размером 120 × 75 мм оснащена смотровым окном 120 × 45 мм. Программируемое управление включает кнопки запуска и паузы, время задается в диапазоне 1–999 с. Система автоматически выполняет откачку, распыление и напуск воздуха. Диапазон вакуума составляет от атмосферного давления до 1 × 10⁻³ мбар, скорость откачки — 133 л/мин, предельный вакуум — 10⁻⁴ мбар. Диапазон измерения тока равен 0–99 мА, уровень шума — 56 дБ.

Наименование производителя

MGSI 3D Magnetron Sputtering PVD Coating System and 450x280x340mm Size for Sample Preparation Laboratory Drying