Артикул: 515-356 Модель: ШДУ-77(4Е) Секция: Дополнительная

Среднечастотный источник питания

Рабочая частота источника питания составляет 40 кГц. *

*) Формулировки описания принадлежат зарубежному производителю и приведены без изменений. Инженеры отдела 91Т уже поставили в план техническую и стилистическую редактуру описания. В ближайшее время мы пересмотрим характеристики и терминологию, проверим технические детали и доработаем текст описания ШДУ-77(4Е), чтобы он отвечал на большинство вопросов и ясно раскрывал назначение и возможности оборудования. Хотите получить ответ быстрее — задайте вопрос сейчас же.

Наименование производителяWZP5 5KW 40kHz Medium-Frequency Power Supply-for Vacuum Plasma Cleaning Machine & Industrial Surface Treatment, WT2C 40kHz Vacuum Plasma Cleaner Power Supply-Medium-Frequency for Small Plasma Cleaning Machines, WZP10 10KW 40kHz Medium Frequency Plasma Cleaning Power Supply-High Power Generator for Vacuum Plasma Cleaner System
Задать вопрос Искать на Baidu

Какую задачу решает источник питания

Среднечастотный источник питания используют в системе вакуумной плазменной очистки для обработки промышленных поверхностей.

Характеристики ШДУ-77(4Е)

Модель (по базе 91Т)ШДУ-77(4Е)
Материалисточник питания 5 кВт
Размер480 × 135 × 380 мм
Источник питания - гибкость поставки.
Каждый проект по-своему уникален, и мы это понимаем. Именно поэтому по запросу мы можем обсудить корректировку технических характеристик, типоразмеров и комплектации ШДУ-77(4Е) под условия применения (на базе производителя-оригинала или нашего завода в России).

Данные проверены на актуальность: 26.09.26

Информация о производителе и характеристиках подтверждена.

Люди, которые искали Источник питания, также смотрели:

Настольная сверхбыстрая высоковакуумная печь для горячего прессования с регулируемым давлением, до 2900 °C, 16 кВт

Настольная сверхбыстрая высоковакуумная печь для горячего прессования с регулируемым давлением, до 2900 °C, 16 кВт

Модель: РКИ-44(2Х)
Настольная печь оснащена вакуумной камерой с кварцевой трубкой диаметром 152,4 мм, герметизируемой верхним и нижним фланцами. Вакуум может достигать 7 × 10^-3 торр при использовании механического насоса и 5 × 10^-5 торр при использовании молекулярного насоса. Предусмотрены ручной и автоматический ре
Гибридный аппликатор плёнки шириной 100/150 мм+2 фото

Гибридный аппликатор плёнки шириной 100/150 мм

Модель: ПБУ-87(8М)
Гибридный аппликатор плёнки оснащён щелевой матрицей и ракельным ножом.
Прозрачная акриловая вакуумная сушильная камера+3 фото

Прозрачная акриловая вакуумная сушильная камера

Модель: КЭБ-11(8Д)
Размер камеры составляет 200 × 200 × 200 см, толщина — 20 мм.
Высокоточный коррозионностойкий микроплунжерный насос для лабораторного ввода жидкостей и дозирования химических веществ+1 фото

Высокоточный коррозионностойкий микроплунжерный насос для лабораторного ввода жидкостей и дозирования химических веществ

Модель: ВНЮ-59(2С)
Насос изготовлен из инженерных пластиков. Вместимость составляет 100–5000 мкл, размер соответствует диапазону 100–5000 мкл.